填空題

圓筒式等離子刻蝕的（），適用于（）工藝；反應離子刻蝕，（），可以用通入不同的工藝氣體，實現好的選擇性，適合于對（）和（）的刻蝕。

答案：方向性差，刻蝕速率慢，過刻蝕性能好；去膠；方向性好，刻蝕速率高；SiO₂、Al、Si₃N₄；多晶硅

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干法刻蝕的終點檢測有許多方法，通常采用的是（）終點檢測方法。

答案：殘余氣體質譜分析、等離子室光發(fā)射譜分析和激光干涉

【簡答題】實用的等離子體刻蝕工藝必須滿足哪些條件？

答案：

1.反應產物是揮發(fā)性的；
2.選擇比率高；
3.刻蝕速率快；
4.具有好的終點靈敏性；
5.有好的各向異性刻蝕速率。