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問(wèn)答題
【簡(jiǎn)答題】實(shí)用的等離子體刻蝕工藝必須滿足哪些條件？
答案：
1.反應(yīng)產(chǎn)物是揮發(fā)性的；
2.選擇比率高；
3.刻蝕速率快；
4.具有好的終點(diǎn)靈敏性；
5.有好的各向異性刻蝕速率。
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填空題
離子注入摻雜劑量偏差的原因主要來(lái)源于：（）、（）和可能的（）。 例如：當(dāng)作28Si+注入時(shí)，可能有真空系統(tǒng)中剩余氣體產(chǎn)生的（）也會(huì)同時(shí)注入。
答案：
中性原子注入；二次電子效應(yīng)；相同荷質(zhì)比離子的注入；N2+
