問答題簡述離子注入的優(yōu)缺點
您可能感興趣的試卷
你可能感興趣的試題
1.問答題簡述熱擴散的三個步驟,以及它們的作用
2.問答題簡述摻雜的兩種方法
3.問答題氧化層在芯片制備中有哪幾方面的應用?
4.問答題簡述常見的初級泵和高級泵。
5.問答題工藝用氣體通常分為哪兩類?
最新試題
下面哪道工序主要是針對晶圓切割之后在顯微鏡下進行晶圓r的外觀檢查,是否有出現(xiàn)廢品?()
題型:單項選擇題
下面哪個選項不是集成電路工藝用化學氣體質量的指標?()
題型:單項選擇題
目前制備SOI材料的主流技術有幾種?()
題型:單項選擇題
刻蝕工藝可以和以下哪個工藝結合來實現(xiàn)圖形的轉移?()
題型:單項選擇題
進行溝槽填充常用的金屬材料是()。
題型:單項選擇題
CMP的設備構成包括()。
題型:多項選擇題
下面哪些元素屬于半徑較小的雜質原子?()
題型:多項選擇題
進行光刻工藝前的清洗步驟是()。
題型:單項選擇題
碳納米管場效應晶體管是未來晶體管發(fā)展趨勢之一。
題型:判斷題
如下哪個選項不是半導體器件制備過程中的主要污染物?()
題型:單項選擇題