一般情況下，刻蝕完成后需要進行的操作是（）

（）可以通過帶電粒子在盛場作用下做運動把粒子進行篩選，挑選出唯一需要注入的離子。

解決金屬鋁與襯底之間肖特基接觸的方法有（）。

高壓汞燈作為紫外光源被使用有常規(guī)i線步進光刻機上，那么i線的UV光波長為（）

最常用的砷化橡的濕法刻蝕腐蝕液包括（）

回態(tài)源擴散的雜質(zhì)源有（）

兼具有各向異性刻蝕的優(yōu)點，又有可接受的選擇比的刻蝕方法是（）。

當需要刻蝕的圖形尺寸大于3um時，一般使用（）。

通常鉭、鈷、鎳等難溶金屬應用于（）

敘述測試晶體管的方法？