影響顯影工藝的因素有（）。

解決金屬鋁與襯底之間肖特基接觸的方法有（）。

堅膜烘焙在加熱平板上進行，溫度控制在（）。

以下屬于刻蝕環(huán)節(jié)質(zhì)量要求的是（）

下列可能造成離子源沾污的因素是（）

回態(tài)源擴散的雜質(zhì)源有（）

在離子注入完成后，檢驗到硅片表面有顆粒污染嚴重的情況，該情況引起的主要問題有（）

試說明ICT測試電阻器阻值的原理？為什么要加隔離點？

刻蝕的過程中，對刻蝕的要求是（）

最常用的砷化橡的濕法刻蝕腐蝕液包括（）