單項選擇題關于晶體下列說法錯誤的是()
A.調整晶體生長的熱系統(tǒng),使熱場的徑向溫度梯度增大
B.調節(jié)拉晶的運行參數(shù),例如對于凸向熔體的界面加快拉速,增加其凝固速度增加利用結晶潛熱使界面趨于平坦
C.調整晶體或者坩堝的轉速,調整高溫液流的增減
D.增大坩堝內徑與晶體直徑的比值
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1.單項選擇題硅片制備主要工藝流程是()
A.單晶生長→整形→切片→晶片研磨及磨邊→蝕刻→拋光→硅片檢測→打包
B.單晶生長→切片→整形→晶片研磨及磨邊→蝕刻→拋光→硅片檢測→打包
C.單晶生長→整形→切片→蝕刻→晶片研磨及磨邊→拋光→硅片檢測→打包
D.單晶生長→整形→切片→晶片研磨及磨邊→拋光→蝕刻→硅片檢測→打包
2.單項選擇題半導體硅工業(yè)產品不包括()①多晶硅②單晶硅③外延片④非晶硅
A.①②④
B.①②③④
C.②③④
D.③④
3.單項選擇題在工業(yè)生產中廣泛用的是()
A.化學清洗
B.rCA清洗
C.超聲波清洗
4.單項選擇題對于鑄造多晶硅氧濃度越(),鈍化效果越(),少數(shù)載流子壽命增加越()
A.低,好,多
B.低,好,少
C.低,差,多
D.高,好,多
5.單項選擇題在我國通常稱為工業(yè)硅或冶金級硅含量在()以上。
A.90%
B.92%
C.95%
D.97%
最新試題
一塊半導體壽命τ=15µs,光照在材料中會產生非平衡載流子,光照突然停止30µs后,其中非平衡載流子將衰減到原來的()。
題型:單項選擇題
屬于晶體缺陷中面缺陷的是()
題型:單項選擇題
用能量()禁帶寬度的光子照射p-n結會產生光生伏特效應。
題型:單項選擇題
鑄造多晶硅中的氧主要來源不包括()
題型:單項選擇題
在通常情況下,GaN呈()型結構。
題型:單項選擇題
懸浮區(qū)熔的優(yōu)點不包括()
題型:單項選擇題
原子晶體中的原子與原子之間的鍵能隨原子間距的而迅速()
題型:單項選擇題
對于同時存在一種施主雜質和一種受主雜質的均勻摻雜的非簡并半導體,在溫度足夠高、ni>>/ND-NA/時,半導體具有()半導體的導電特性。
題型:單項選擇題
那個不是影響直拉單晶硅的電阻率均勻性的因素()
題型:單項選擇題
如果雜質既有施主的作用又有受主的作用,則這種雜質稱為()。
題型:單項選擇題