單項選擇題在我國通常稱為工業(yè)硅或冶金級硅含量在()以上。
A.90%
B.92%
C.95%
D.97%
您可能感興趣的試卷
你可能感興趣的試題
1.單項選擇題晶體的生長方式在人工制備中用的比較少的是()
A.固相生長
B.液相生長
C.氣相生長
2.單項選擇題下列是晶體的是()
A.玻璃
B.硅
C.松香
D.塑料
3.單項選擇題只涉及到大約一個原子大小范圍的晶格缺陷是()
A、線缺陷
B、面缺陷
C、點缺陷
D、體缺陷
4.單項選擇題硅單質(zhì)是()
A、半導(dǎo)體
B、導(dǎo)體
C、絕緣體
5.問答題簡述影響碳酸鈣分解速度的因素。
最新試題
可用作硅片的研磨材料是()
題型:單項選擇題
原子晶體中的原子與原子之間的鍵能隨原子間距的而迅速()
題型:單項選擇題
一塊半導(dǎo)體壽命τ=15µs,光照在材料中會產(chǎn)生非平衡載流子,光照突然停止30µs后,其中非平衡載流子將衰減到原來的()。
題型:單項選擇題
CZ法的主要流程工藝順序正確的是()
題型:單項選擇題
下列選項中,對從石英到單晶硅的工藝流程是()
題型:單項選擇題
影響單晶內(nèi)雜質(zhì)數(shù)量及分布的主要因素是()①原材料中雜質(zhì)的種類和含量;②雜質(zhì)的分凝效應(yīng);③雜質(zhì)的蒸發(fā)效應(yīng);④生長過程中坩堝或系統(tǒng)內(nèi)雜質(zhì)的沾污;⑤加入雜質(zhì)量;
題型:單項選擇題
光子傳感器是利用某些半導(dǎo)體材料在入射光的照下,產(chǎn)生().使材料的電學(xué)性質(zhì)發(fā)生變化。通過測量電學(xué)性質(zhì)的變化,可以知道紅外輻射的強弱。光子效應(yīng)所制成的紅外探測器。
題型:單項選擇題
下列哪一個遷移率的測量方法適合于低阻材料少子遷移率測量()
題型:單項選擇題
如果雜質(zhì)既有施主的作用又有受主的作用,則這種雜質(zhì)稱為()。
題型:單項選擇題
鑄造多晶硅中氫的主要作用包括()
題型:多項選擇題