例舉并描出旋轉(zhuǎn)涂膠的4個基本步驟。

描述化學機械平坦化工藝。

例舉離子注入工藝和擴散工藝相比的優(yōu)點和缺點。

描述電子回旋共振（ECR）。

描述RF濺射系統(tǒng)。

例舉離子注入設備的5個主要子系統(tǒng)。

什么是硅化物？難熔金屬硅化物在硅片制造業(yè)中重要的原因是什么？

光刻中采用步進掃描技術獲得了什么好處？

什么是阻擋層金屬？阻擋層材料的基本特征是什么？哪種金屬常被用作阻擋層金屬？

解釋什么是暗場掩模板？