解釋掃描投影光刻機是怎樣工作的？掃描投影光刻機努力解決什么問題？

解釋什么是暗場掩模板？

給出投影掩模板的定義。投影掩模板和光掩模板的區(qū)別是什么？

例舉離子注入設(shè)備的5個主要子系統(tǒng)。

描述電子回旋共振（ECR）。

光刻中采用步進掃描技術(shù)獲得了什么好處？

解釋發(fā)生刻蝕反應的化學機理和物理機理。

例舉并描出旋轉(zhuǎn)涂膠的4個基本步驟。

在硅片制造中光刻膠的兩種目的是什么？

解釋離子束擴展和空間電荷中和。