A.單個(gè)絕對式線圈
D.雙個(gè)絕對式線圈
C.直流磁飽和線圈
D.差動(dòng)式線圈
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A.在試樣中感應(yīng)出渦流
B.檢出渦流的變化
C.在試樣中感應(yīng)出渦流和檢出渦流的變化
D.提供直流磁飽和
A.絕對式繞組
B.次級繞組
C.相位繞組
D.上述的都不是
A.線圈中試樣的電導(dǎo)率
B.線圈中試樣的磁導(dǎo)率
C.填充系數(shù)
D.上述的三項(xiàng)
A.引起流過檢驗(yàn)線圈的電流的增加
B.引起流過檢驗(yàn)線圈的電流的減少
C.對流過檢驗(yàn)線圈的電流無影響
D.使加到線圈的電壓降低
A.100HZ
B.10KHZ
C.1MHZ
D.10MHZ
最新試題
對含有內(nèi)穿過式線圈的薄壁管,影響其阻抗變化的因素有()
觀察底片時(shí),為能識別缺陷圖像,缺陷圖像對比度與圖像噪聲之比應(yīng)不小于識別閾值。
對焊接接頭穩(wěn)定時(shí)間有規(guī)定的產(chǎn)品,工藝規(guī)程應(yīng)作出規(guī)定,檢驗(yàn)監(jiān)控確認(rèn),檢驗(yàn)蓋章時(shí)穩(wěn)定時(shí)間不足者應(yīng)在申請單注明穩(wěn)定時(shí)間節(jié)點(diǎn),否則X光室視為穩(wěn)定時(shí)間符合要求。
像質(zhì)計(jì)放置次數(shù)一般應(yīng)與透照次數(shù)相同,相同部位、相同的透照條件連續(xù)透照時(shí)可適當(dāng)減少放置次數(shù).但不少于透照次數(shù)的三分之一。
增加工藝性透視有利于保證焊接質(zhì)量,因此盡可能增加工藝性透視次數(shù)。
按輻射安全管理規(guī)定,輻射作業(yè)場所每周應(yīng)進(jìn)行一次輻射劑量檢測。
二次打底焊接或重熔排除,無需辦理相關(guān)手續(xù),直接使用前次的申請手續(xù)。
下面列出的確定透照布置應(yīng)考慮的基本內(nèi)容中,錯(cuò)誤的是()。
產(chǎn)品焊接接頭最終質(zhì)量經(jīng)X射線檢驗(yàn)合格后不得再實(shí)施影響接頭性能的加工(如校形、修刮、重熔等),否則應(yīng)重新申請進(jìn)行X射線檢測。
探傷人員在透視間內(nèi)發(fā)現(xiàn)輻射正在進(jìn)行應(yīng)立即()。