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問答題
【簡(jiǎn)答題】與普通濺射法相比，磁控濺射的特點(diǎn)是什么？
答案：普通濺射法有兩個(gè)缺點(diǎn)：一是濺射方法淀積薄膜的速率低；二是所需的工作氣壓較高，這兩者綜合效果是氣體分子對(duì)薄膜產(chǎn)生的污染的可...
問答題
【簡(jiǎn)答題】簡(jiǎn)述干氧氧化與濕氧氧化各自的特點(diǎn)，通常用哪種工藝制備較厚的二氧化硅層？
答案：干氧氧化：（優(yōu)）結(jié)構(gòu)致密，表面平整光亮；對(duì)雜質(zhì)掩蔽能力強(qiáng)；鈍化效果好；生長(zhǎng)均勻性、重復(fù)性好；表面對(duì)光刻膠的粘附好，（缺）...