多項(xiàng)選擇題砼質(zhì)量控制時(shí),人工砂質(zhì)量主要控制項(xiàng)目除顆粒級(jí)配、細(xì)度模數(shù)、含泥量、泥塊含量、堅(jiān)固性等指標(biāo)外,尚應(yīng)包括()指標(biāo)。
A、石粉含量
B、氯離子含量
C、有害物質(zhì)含量
D、壓碎指標(biāo)值
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1.多項(xiàng)選擇題粗骨料最大公稱(chēng)直徑往往受制于以下()因素。
A、構(gòu)件截面最小尺寸
B、水泥品種
C、建筑規(guī)模
D、鋼筋最小間距
2.多項(xiàng)選擇題砼質(zhì)量控制時(shí),粗骨料主要控制項(xiàng)目有()。
A、針片狀顆粒含量
B、顆粒級(jí)配
C、含泥量
D、表觀密度
3.多項(xiàng)選擇題以下選項(xiàng)的水泥屬于通用水泥的有()。
A、復(fù)合水泥
B、砌筑水泥
C、普通水泥
D、白色水泥
4.多項(xiàng)選擇題砼質(zhì)量控制時(shí),水泥質(zhì)量主要控制項(xiàng)目包括()。
A、安定性
B、膠砂強(qiáng)度
C、細(xì)度
D、凝結(jié)時(shí)間
5.單項(xiàng)選擇題錨具出廠檢測(cè)時(shí),每組批的套數(shù)不得超過(guò)()
A、1000
B、2000
C、3000
D、5000
最新試題
在光線作用下,能使物體產(chǎn)生一定方向的電動(dòng)勢(shì)的現(xiàn)象稱(chēng)()
題型:?jiǎn)雾?xiàng)選擇題
下列是晶體的是()。
題型:?jiǎn)雾?xiàng)選擇題
那個(gè)不是影響直拉單晶硅的電阻率均勻性的因素()
題型:?jiǎn)雾?xiàng)選擇題
CZ法的主要流程工藝順序正確的是()
題型:?jiǎn)雾?xiàng)選擇題
影響單晶內(nèi)雜質(zhì)數(shù)量及分布的主要因素是()①原材料中雜質(zhì)的種類(lèi)和含量;②雜質(zhì)的分凝效應(yīng);③雜質(zhì)的蒸發(fā)效應(yīng);④生長(zhǎng)過(guò)程中坩堝或系統(tǒng)內(nèi)雜質(zhì)的沾污;⑤加入雜質(zhì)量;
題型:?jiǎn)雾?xiàng)選擇題
下列選項(xiàng)中,對(duì)從石英到單晶硅的工藝流程是()
題型:?jiǎn)雾?xiàng)選擇題
硅片拋光在原理上不可分為()
題型:?jiǎn)雾?xiàng)選擇題
屬于晶體缺陷中面缺陷的是()
題型:?jiǎn)雾?xiàng)選擇題
載流子的擴(kuò)散運(yùn)動(dòng)產(chǎn)生擴(kuò)散電流,漂移運(yùn)動(dòng)產(chǎn)生()電流。
題型:?jiǎn)雾?xiàng)選擇題
表面態(tài)中性能級(jí)位于費(fèi)米能級(jí)以上時(shí),該表面態(tài)為();
題型:?jiǎn)雾?xiàng)選擇題