單項選擇題激光退火目前有（）激光退火兩種。
A.一般和特殊
B.脈沖和連續(xù)
C.高溫和低溫
D.快速和慢速
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1.單項選擇題（）就是用功率密度很高的激光束照射半導(dǎo)體表面，使其中離子注入層在極短的時間內(nèi)達(dá)到高溫，消除損傷。
A.熱退火
B.激光退火
C.連續(xù)激光退火
D.脈沖激光退火
2.單項選擇題目前，最廣泛使用的退火方式是（）。
A.熱退火
B.激光退火
C.電子束退火
D.離子束退火
3.單項選擇題損傷的分布與注入離子在在靶內(nèi)的（）的分布密切相關(guān)。
A.能量淀積
B.動量淀積
C.能量振蕩
D.動量振蕩
4.多項選擇題哪種方法可以增加缺陷的積累率而降低臨界注入量：（）。
A.低溫注入
B.常溫注入
C.高溫注入
D.分子注入
E.雙注入
5.多項選擇題下列哪些因素會影響臨界注入量的大?。海ǎ?/a>
A.注入離子的質(zhì)量
B.靶的種類
C.注入溫度
D.注入速度
E.注入劑量
最新試題
離子注入機掃描系統(tǒng)中，采用的掃描方式有（）
題型：多項選擇題
刻蝕氮化硅薄膜時，可以用加熱的磷酸進行刻蝕，此時的溫度一般設(shè)置在（）
題型：單項選擇題
金屬薄膜制備中常見的濺射方式有（）
題型：多項選擇題
鋁的電遷移可能導(dǎo)致的結(jié)果是（）
題型：多項選擇題
兼具有各向異性刻蝕的優(yōu)點，又有可接受的選擇比的刻蝕方法是（）。
題型：單項選擇題
傳統(tǒng)的平坦化技術(shù)有（）
題型：多項選擇題
假設(shè)光刻膠的厚度是2000埃，二氧化硅的厚度為4000塊，如果要求經(jīng)過30秒的刻蝕后，厚度變?yōu)?400埃，那么這個過程中刻蝕速率是（）埃/分鐘。
題型：單項選擇題
下列哪些是進行光刻前的預(yù)處理的步驟？（）
題型：多項選擇題
（）可以通過帶電粒子在盛場作用下做運動把粒子進行篩選，挑選出唯一需要注入的離子。
題型：單項選擇題
調(diào)試和維修電路時排除故障的一般程序和方法是怎樣的？
題型：問答題