光學(xué)光刻中影響圖像質(zhì)量的兩個重要參數(shù)是什么？

解釋什么是暗場掩模板？

例舉并解釋硅中固態(tài)雜質(zhì)擴(kuò)散的三個步驟。

描述化學(xué)機械平坦化工藝。

什么是摻雜？例舉四種常用的摻雜雜質(zhì)并說明它們是n型還是p型？

光刻中采用步進(jìn)掃描技術(shù)獲得了什么好處？

解釋掃描投影光刻機是怎樣工作的？掃描投影光刻機努力解決什么問題？

例舉并描述光刻中使用的兩種曝光光源。

什么是硅化物？難熔金屬硅化物在硅片制造業(yè)中重要的原因是什么？

什么是結(jié)深？