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問答題
【論述題】熱蒸發(fā)法淀積薄膜的淀積速率與哪些因素有關(guān)？淀積速率的測(cè)量采用什么辦法？
答案：
簡述其工作原理。淀積速率與蒸發(fā)材料溫度腔體形狀等因素有關(guān)。淀積速率通常用石英晶體速率指示儀測(cè)量。所用器件為一個(gè)諧振板，它...
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【論述題】物理氣相淀積最基本的兩種方法是什么？簡述這兩種方法制備薄膜的過程。
答案：
物理氣相淀積：蒸發(fā)Evaporation、濺射Sputtering熱蒸發(fā)法：在真空條件下，加熱蒸發(fā)源，使原子或分子從蒸發(fā)...
問答題
【論述題】對(duì)RTP來說，很難在高溫下處理大直徑晶圓片而不在晶圓片邊緣造成熱塑應(yīng)力引起的滑移。分析滑移產(chǎn)生的原因。如果溫度上升速度加快后，滑移現(xiàn)象變得更為嚴(yán)重，這說明晶圓片表面上的輻射分布是怎樣的？
答案：
硅片熱不均勻的因素三個(gè)因素造成硅片的熱不均勻問題（硅片邊緣溫度比中心低）：
圓片邊緣接收的熱輻...
圓片邊緣接收的熱輻...
