問(wèn)答題

【論述題】對(duì)RTP來(lái)說(shuō)，很難在高溫下處理大直徑晶圓片而不在晶圓片邊緣造成熱塑應(yīng)力引起的滑移。分析滑移產(chǎn)生的原因。如果溫度上升速度加快后，滑移現(xiàn)象變得更為嚴(yán)重，這說(shuō)明晶圓片表面上的輻射分布是怎樣的？

答案：硅片熱不均勻的因素三個(gè)因素造成硅片的熱不均勻問(wèn)題（硅片邊緣溫度比中心低）：
圓片邊緣接收的熱輻...

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【論述題】簡(jiǎn)述RTP在集成電路制造中的常見(jiàn)應(yīng)用。

答案： 1）雜質(zhì)的快速熱激活RTP工藝最具吸引力的的熱點(diǎn)之一是晶圓片不用達(dá)到熱平衡狀態(tài)，意味著電活性的有效摻雜實(shí)際上可以超過(guò)固溶...

問(wèn)答題

【論述題】簡(jiǎn)述RTP設(shè)備的工作原理，相對(duì)于傳統(tǒng)高溫爐管它有什么優(yōu)勢(shì)？

答案： RTP工藝是一類(lèi)單片熱處理工藝，其目的是通過(guò)縮短熱處理時(shí)間和溫度或只縮短熱處理時(shí)間來(lái)獲得最小的工藝熱預(yù)算（Thermal...