填空題離子注入是借其()強(qiáng)行進(jìn)入靶材料中的一個()物理過程。
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最新試題
敘述H2還原SiCl4外延的原理,寫出化學(xué)方程式。
題型:問答題
目前在半自動化和自動化的鍵合機(jī)上用的金絲或硅鋁絲都是經(jīng)生產(chǎn)廠家嚴(yán)格處理包裝后銷售,一般不能再退火,一經(jīng)退火反而壞了性能。()
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絲網(wǎng)印刷膜的厚度不隨著刮板移動速度的增加而減小。()
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雙極晶體管中只有一種載流子(電子或空穴)傳輸電流。()
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金屬剝離工藝是以具有一定圖形的光致抗蝕劑膜為掩膜,帶膠蒸發(fā)或?yàn)R射所需的金屬,然后在去除光致抗蝕劑膜的同時,把膠膜上的金屬一起去除干凈。()
題型:判斷題