填空題

離子注入系統(tǒng)結(jié)構(gòu)一般包括（）等部分。

答案：離子源、磁分析器、加速管、聚焦和掃描系統(tǒng)、靶室

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離子注入在襯底中產(chǎn)生的損傷主要有（）等三種。

答案：點(diǎn)缺陷、非晶區(qū)、非晶層

常規(guī)平面工藝擴(kuò)散工序中的恒定表面源擴(kuò)散過(guò)程中，雜質(zhì)在體內(nèi)滿(mǎn)足（）函數(shù)分布。常規(guī)平面工藝擴(kuò)散工序中的有限表面源擴(kuò)散過(guò)程中，雜質(zhì)在體內(nèi)滿(mǎn)足（）函數(shù)分布。

答案：余誤差；高斯分布

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