真空鍍膜操作員章節(jié)練習(xí)(2020.04.11)
來(lái)源：考試資料網(wǎng)3.問(wèn)答題CVD制程具有哪些優(yōu)缺點(diǎn)？
參考答案：優(yōu)點(diǎn)：
（1）真空度要求不高，甚至不須真空，如熱噴覆。
（2）高沉積速率，APCVD可以達(dá)到1&mu...
（1）真空度要求不高，甚至不須真空，如熱噴覆。
（2）高沉積速率，APCVD可以達(dá)到1&mu...
5.判斷題鍍膜機(jī)冷卻水的水溫越低越好.
7.問(wèn)答題在使用擴(kuò)散泵應(yīng)注意哪些事項(xiàng)？
參考答案：1、冷卻水不足，必須關(guān)閉擴(kuò)散泵，否則輕則會(huì)造成返油，重則會(huì)使擴(kuò)散泵過(guò)熱造成擴(kuò)散泵油燒焦。（機(jī)器若有自動(dòng)保護(hù)裝置，會(huì)自動(dòng)停...
參考答案：壓電效應(yīng)；質(zhì)量負(fù)荷效應(yīng)
