- 搜標(biāo)題
- 搜題干
- 搜選項(xiàng)
填空題
離子注入機(jī)的對(duì)Si襯底作P型摻雜的源氣常用（），N型摻雜的源氣常用（）和（）。對(duì)GaAs做N型摻雜的源氣常用（）
答案：
BF3；PH5；AsH5；SiH4
你可能感興趣的試題
填空題
（）稱(chēng)為溝道效應(yīng)，可以用（）、（）和（）來(lái)避免。其中，（）是最常用的方法。
答案：
沿晶體溝道注入離子的射程遠(yuǎn)大于隨機(jī)方向注入離子射程的現(xiàn)象；硅片相對(duì)注入束偏轉(zhuǎn)5-7°的注入角；表面生長(zhǎng)氧化層；硅注入表面...
填空題
注入離子的射程主要由（）決定。確定注入離子分布的主要參數(shù)是（）及其（）。注入離子分布的一級(jí)近似為（）?？蓪?xiě)成：
答案：
離子能量、離子種類(lèi)和襯底材料；平均投影射程；標(biāo)準(zhǔn)偏差；高斯分布
