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判斷題

CMOS是由PMOS和NMOS構成，制作時可以是P阱結構，還可以是N阱結構，更可以是雙阱結構。

答案：正確

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MOS管的制作一般經(jīng)過阱區(qū)制作、有源區(qū)光刻、柵氧淀積、柵的淀積和光刻、源漏注入、接觸孔光刻、金屬淀積及反刻、鈍化等工藝。

答案：正確

當掩模版上的圖形轉移到下方薄膜材料上時，必須要考慮到光刻膠的性質（正膠還是負膠）。

答案：錯誤

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