填空題入射離子的兩種能量損失模型為：核碰撞和（）碰撞。
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4.單項(xiàng)選擇題
下面選項(xiàng)屬于主擴(kuò)散的作用有（）。
1.調(diào)節(jié)表面濃度
2.控制進(jìn)入硅表面內(nèi)部的雜質(zhì)總量
3.控制結(jié)深
A.1
B.2
C.3
D.1、3
5.單項(xiàng)選擇題
不論正膠或負(fù)膠，光刻過程中都包括如下步驟：
1.刻蝕
2.前烘
3..顯影
4.去膠
5.涂膠
6.曝光
7.堅(jiān)膜
以下選項(xiàng)排列正確的是：（）。
A.2561437
B.5263471
C.5263741
D.5263714。
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