A.照射野平面上出現(xiàn)幾率最大的電子的能量
B.照射野平面上電子的平均能量
C.照射野平面上電子的最大能量
D.照射野平面上1╱3最大電子能量
E.照射野平面上最大射程的電子的能量
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A.居里
B.倫琴
C.Gy
D.庫(kù)侖
E.希弗
A.單位劑量大
B.靶區(qū)周邊劑量變化梯度大
C.要求高精確度定位
D.對(duì)輻射抗拒的病灶細(xì)胞無(wú)效
E.靶區(qū)劑量分布不均勻
A.MeV
B.J
C.cm-1
D.MeVcm-1
E.Sv
A.百分深度劑量
B.組織空氣比
C.散射空氣比
D.組織體模比
E.組織最大化
A.正常細(xì)胞
B.克隆源性細(xì)胞
C.輻射敏感性細(xì)胞
D.輻射不敏感性細(xì)胞
E.干細(xì)胞
最新試題
質(zhì)量保證和質(zhì)量控制的簡(jiǎn)稱分別為QA、QC。
低LET射線的RBE值()1.0,高LET射線的RBE值()2.0。
對(duì)重離子,線性碰撞本領(lǐng)是選擇組織替代材料的首要條件。
源皮距越小,百分深度劑量越大。
帶電粒子入射到物體時(shí),沒(méi)有確定的射程。
檢查燈光野與射野的一致性通常用膠片法。
射線能量越高,百分深度劑量隨射野面積的改變?cè)叫 ?/p>
半影為射野邊緣劑量隨離開(kāi)中心軸距離增加而急劇變化的范圍。
電磁掃描調(diào)強(qiáng)不僅具有X 射線光子的利用率高、治療時(shí)間短的優(yōu)點(diǎn),而且可實(shí)現(xiàn)電子束、質(zhì)子束的調(diào)強(qiáng)治療。
影響靶點(diǎn)位置精確度的因素包括機(jī)械精度,定位精度和擺位精度。