自對準無需重疊設(shè)計減小了電容提高了速度減小了柵、源、漏極尺寸增加集成度;增加電路可靠性
將兩次MASK步驟合為一次,讓D,S和G三個區(qū)域一次成形
CGS、CGD都增大了;柵極增長,管子尺寸變大,集成度降低。