單項(xiàng)選擇題低變催化劑還原中期，至接近還原末期的入口氫濃度，不宜大于（）

A、0.5%
B、2%
C、10%
D、20%


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1.單項(xiàng)選擇題低變催化劑還原結(jié)束標(biāo)準(zhǔn)之一，是還原反應(yīng)經(jīng)歷了（）階段

A、升溫
B、降溫
C、高溫回落
D、脫水

2.單項(xiàng)選擇題低變催化劑還原結(jié)束標(biāo)準(zhǔn)之一，是低變反應(yīng)器（）無耗氫

A、入口
B、催化劑還原
C、循環(huán)氣
D、出口

3.單項(xiàng)選擇題低變催化劑還原結(jié)束標(biāo)準(zhǔn)之一，是低變反應(yīng)器（）無溫升

A、入口
B、出口
C、循環(huán)氣
D、床層

4.多項(xiàng)選擇題低變催化劑還原時(shí)，低變（）溫度達(dá)到180℃左右，才開始配氫氣還原，以防氫氣累積超溫

A、入口
B、出口
C、床層各點(diǎn)
D、床層熱點(diǎn)

5.單項(xiàng)選擇題低變催化劑還原時(shí)，低變升溫，（）穩(wěn)定后，才開始配氫氣，以防超溫

A、時(shí)間
B、循環(huán)系統(tǒng)流速
C、溫度
D、脫水