單項選擇題低變催化劑還原結(jié)束標(biāo)準(zhǔn)之一,是低變反應(yīng)器()無溫升

A、入口
B、出口
C、循環(huán)氣
D、床層


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2.單項選擇題低變催化劑還原時,低變升溫,()穩(wěn)定后,才開始配氫氣,以防超溫

A、時間
B、循環(huán)系統(tǒng)流速
C、溫度
D、脫水

3.多項選擇題溶液系統(tǒng)設(shè)備進(jìn)行靜釩化,是指對()的釩化處理

A、再生塔頂部
B、再生塔中部
C、再生塔底部
D、溶液再沸器

4.單項選擇題低變催化劑還原初期氫濃度應(yīng)為()

A、0.1%~0.5%
B、1%
C、1.0%~5.0%
D、2%

5.多項選擇題工藝氣切入吸收塔時,要密切觀察()的液位,以防止工藝氣帶溶液出吸收塔

A、吸收塔
B、粗氫分液罐
C、兩塔
D、再生塔