順達公司擬在本省某開發(fā)區(qū)內(nèi)建設一座電子元器件廠。該省級開發(fā)區(qū)有集中的污水處理廠和供熱系統(tǒng)，其他環(huán)?；A設施也較完善，目前開發(fā)區(qū)污水處理廠的設計處理能力為10萬m³/d，實際處理能力為6.5萬m³/d。污水處理廠接管水質(zhì)要求為COD350mg/L、NH₃-N25mg/L、TP6mg/L，其他水質(zhì)標準應當滿足《污水綜合排放標準》（GB8978-1996）表1及表4三級排放標準（氟化物20mg/L、總銅2.0mg/L、總砷0.5mg/L）。電子元器件生產(chǎn)以硅片為基材，經(jīng)氨水清洗、氫氟酸或硫酸蝕刻砷化氫摻雜、硫酸銅化學鍍等工序得到最終產(chǎn)品。其中摻雜工序和化學鍍工序流程如圖1所示。經(jīng)過工程分析可知，擬建項目在生產(chǎn)過程中產(chǎn)生的清洗廢水、蝕刻廢水、尾氣洗滌塔廢水、化學鍍廢水將經(jīng)過預處理后進入中和池，中和池出水排入開發(fā)區(qū)污水處理廠，廢水預處理后的情況參見表1。氨水清洗工序產(chǎn)生的清洗廢水中含氨量為0.02%，為降低廢水中氨的濃度，擬采取熱交換吹脫法除氨，氨的吹脫效率80%，吹脫出的氨經(jīng)15m高排氣筒排放?！稅撼粑廴疚锱欧艠藴省罚℅B14554-93）中規(guī)定：15m高排氣筒氨排放量限值為4.9kg/h。

某公司在某工業(yè)園新建兩套8m²的豎爐球團項目，年產(chǎn)球團礦80萬t。根據(jù)當?shù)丨h(huán)保部門批復，項目SO₂總量為540t。豎爐球團項目生產(chǎn)工藝為：含鐵料、膨潤土按一定的配比進入烘干混勻筒烘干。烘干混勻后的混合料由φ6m圓盤給料機、給料皮帶機直接向φ6m造球圓盤供料。造好的小球通過接料板落入S-1皮帶機，然后進入雙層圓輥篩篩分。上層為大球篩，篩上≥18mm粒級的生球，經(jīng)膠帶機，被送到大球破碎機破碎后進入返料系統(tǒng)；篩下<18mm粒級的生球進入下層篩繼續(xù)篩分，篩出≤5mm粒級的生球進入返礦系統(tǒng)，篩上合格生球（大于5mm小于18mm）直接落入S-2膠帶機上，合格的生球通過設有電子秤的皮帶機轉(zhuǎn)運至梭式布料機，梭式布料機再向豎爐均勻布料。合格生球在爐頂布料后進入爐體，經(jīng)過干燥、預熱、焙燒、均熱、冷卻等，再通過液壓傳動的齒輥卸料機、振動給料機排出爐體。豎爐煙氣、豎爐排料口（鏈扳機頭部）、成品篩分、豎爐直料管與振動給料器產(chǎn)生的廢氣（200000m³/h）經(jīng)電除塵器凈化后進入玻璃鋼旋流板塔脫硫后由60m煙囪外排。球團返礦、電除塵器收塵送入某選廠進行選礦生產(chǎn)鐵精礦。項目噸產(chǎn)品鐵精砂耗量為1050kg，能源為天然氣。鐵精砂化學成分見表1。成品球團主要成分所占的比例：TFe≥62%、FeO≤1.0%、S≤0.045%，堿度R=0.44。豎爐球團生產(chǎn)為連續(xù)工作制度，四班三運轉(zhuǎn)，每天三班，每班工作8h，作業(yè)天數(shù)330d。

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某公司在某工業(yè)園新建兩套8m²的豎爐球團項目，年產(chǎn)球團礦80萬t。根據(jù)當?shù)丨h(huán)保部門批復，項目SO₂總量為540t。豎爐球團項目生產(chǎn)工藝為：含鐵料、膨潤土按一定的配比進入烘干混勻筒烘干。烘干混勻后的混合料由φ6m圓盤給料機、給料皮帶機直接向φ6m造球圓盤供料。造好的小球通過接料板落入S-1皮帶機，然后進入雙層圓輥篩篩分。上層為大球篩，篩上≥18mm粒級的生球，經(jīng)膠帶機，被送到大球破碎機破碎后進入返料系統(tǒng)；篩下<18mm粒級的生球進入下層篩繼續(xù)篩分，篩出≤5mm粒級的生球進入返礦系統(tǒng)，篩上合格生球（大于5mm小于18mm）直接落入S-2膠帶機上，合格的生球通過設有電子秤的皮帶機轉(zhuǎn)運至梭式布料機，梭式布料機再向豎爐均勻布料。合格生球在爐頂布料后進入爐體，經(jīng)過干燥、預熱、焙燒、均熱、冷卻等，再通過液壓傳動的齒輥卸料機、振動給料機排出爐體。豎爐煙氣、豎爐排料口（鏈扳機頭部）、成品篩分、豎爐直料管與振動給料器產(chǎn)生的廢氣（200000m³/h）經(jīng)電除塵器凈化后進入玻璃鋼旋流板塔脫硫后由60m煙囪外排。球團返礦、電除塵器收塵送入某選廠進行選礦生產(chǎn)鐵精礦。項目噸產(chǎn)品鐵精砂耗量為1050kg，能源為天然氣。鐵精砂化學成分見表1。成品球團主要成分所占的比例：TFe≥62%、FeO≤1.0%、S≤0.045%，堿度R=0.44。豎爐球團生產(chǎn)為連續(xù)工作制度，四班三運轉(zhuǎn)，每天三班，每班工作8h，作業(yè)天數(shù)330d。

順達公司擬在本省某開發(fā)區(qū)內(nèi)建設一座電子元器件廠。該省級開發(fā)區(qū)有集中的污水處理廠和供熱系統(tǒng)，其他環(huán)?；A設施也較完善，目前開發(fā)區(qū)污水處理廠的設計處理能力為10萬m³/d，實際處理能力為6.5萬m³/d。污水處理廠接管水質(zhì)要求為COD350mg/L、NH₃-N25mg/L、TP6mg/L，其他水質(zhì)標準應當滿足《污水綜合排放標準》（GB8978-1996）表1及表4三級排放標準（氟化物20mg/L、總銅2.0mg/L、總砷0.5mg/L）。電子元器件生產(chǎn)以硅片為基材，經(jīng)氨水清洗、氫氟酸或硫酸蝕刻砷化氫摻雜、硫酸銅化學鍍等工序得到最終產(chǎn)品。其中摻雜工序和化學鍍工序流程如圖1所示。經(jīng)過工程分析可知，擬建項目在生產(chǎn)過程中產(chǎn)生的清洗廢水、蝕刻廢水、尾氣洗滌塔廢水、化學鍍廢水將經(jīng)過預處理后進入中和池，中和池出水排入開發(fā)區(qū)污水處理廠，廢水預處理后的情況參見表1。氨水清洗工序產(chǎn)生的清洗廢水中含氨量為0.02%，為降低廢水中氨的濃度，擬采取熱交換吹脫法除氨，氨的吹脫效率80%，吹脫出的氨經(jīng)15m高排氣筒排放?！稅撼粑廴疚锱欧艠藴省罚℅B14554-93）中規(guī)定：15m高排氣筒氨排放量限值為4.9kg/h。

某有限公司為大幅度降低噸銅成本、增加效益、充分挖掘潛力和利用閃速爐首次冷修的良機，決定進行擴建改造工程，將銅的產(chǎn)量由15萬t/a提高到21萬t/a。其中：陽極銅產(chǎn)量由15萬t/a提高到21萬t/a，其中，19萬t/a陽極銅生產(chǎn)陰極銅，2萬t/a陽極銅作為產(chǎn)品直接外銷；陰極銅產(chǎn)量由15萬t/a提高到19萬t/a；硫酸（100%硫酸）產(chǎn)量由49.5萬t/a提高到63.4萬t/a。改擴建工程內(nèi)容包括閃速爐熔煉工序、貧化電爐及渣水淬工序、吹煉工序、電解精煉工序、硫酸工序五個工序的改擴建。擴建改造工程完成后，硫的回收率由95.15%增至95.5%，SO₂排放量由2131t/a降至1948t/a，煙塵排放量由139.7t/a降至133t/a；廢水排放總量為375.4萬t/a，廢水中主要污染物為Cu、As、Pb。工業(yè)水循環(huán)率由91.7%增至92.5%。改擴建工程完成后，生產(chǎn)過程中的廢氣主要來源于干燥尾氣、環(huán)保集煙煙氣、陽極爐煙氣、硫酸脫硫尾氣（通過環(huán)保集煙罩收集閃速爐等冶金爐的泄漏煙氣）4個高架排放源。其污染源主要污染物排放情況見表1。項目冶煉過程中產(chǎn)生水淬渣、轉(zhuǎn)爐渣；污酸、酸性廢水處理過程中產(chǎn)生含砷渣、石膏、中和渣。中和渣浸出試驗結(jié)果見表2。

順達公司擬在本省某開發(fā)區(qū)內(nèi)建設一座電子元器件廠。該省級開發(fā)區(qū)有集中的污水處理廠和供熱系統(tǒng)，其他環(huán)?；A設施也較完善，目前開發(fā)區(qū)污水處理廠的設計處理能力為10萬m³/d，實際處理能力為6.5萬m³/d。污水處理廠接管水質(zhì)要求為COD350mg/L、NH₃-N25mg/L、TP6mg/L，其他水質(zhì)標準應當滿足《污水綜合排放標準》（GB8978-1996）表1及表4三級排放標準（氟化物20mg/L、總銅2.0mg/L、總砷0.5mg/L）。電子元器件生產(chǎn)以硅片為基材，經(jīng)氨水清洗、氫氟酸或硫酸蝕刻砷化氫摻雜、硫酸銅化學鍍等工序得到最終產(chǎn)品。其中摻雜工序和化學鍍工序流程如圖1所示。經(jīng)過工程分析可知，擬建項目在生產(chǎn)過程中產(chǎn)生的清洗廢水、蝕刻廢水、尾氣洗滌塔廢水、化學鍍廢水將經(jīng)過預處理后進入中和池，中和池出水排入開發(fā)區(qū)污水處理廠，廢水預處理后的情況參見表1。氨水清洗工序產(chǎn)生的清洗廢水中含氨量為0.02%，為降低廢水中氨的濃度，擬采取熱交換吹脫法除氨，氨的吹脫效率80%，吹脫出的氨經(jīng)15m高排氣筒排放?！稅撼粑廴疚锱欧艠藴省罚℅B14554-93）中規(guī)定：15m高排氣筒氨排放量限值為4.9kg/h。

順達公司擬在本省某開發(fā)區(qū)內(nèi)建設一座電子元器件廠。該省級開發(fā)區(qū)有集中的污水處理廠和供熱系統(tǒng)，其他環(huán)?；A設施也較完善，目前開發(fā)區(qū)污水處理廠的設計處理能力為10萬m³/d，實際處理能力為6.5萬m³/d。污水處理廠接管水質(zhì)要求為COD350mg/L、NH₃-N25mg/L、TP6mg/L，其他水質(zhì)標準應當滿足《污水綜合排放標準》（GB8978-1996）表1及表4三級排放標準（氟化物20mg/L、總銅2.0mg/L、總砷0.5mg/L）。電子元器件生產(chǎn)以硅片為基材，經(jīng)氨水清洗、氫氟酸或硫酸蝕刻砷化氫摻雜、硫酸銅化學鍍等工序得到最終產(chǎn)品。其中摻雜工序和化學鍍工序流程如圖1所示。經(jīng)過工程分析可知，擬建項目在生產(chǎn)過程中產(chǎn)生的清洗廢水、蝕刻廢水、尾氣洗滌塔廢水、化學鍍廢水將經(jīng)過預處理后進入中和池，中和池出水排入開發(fā)區(qū)污水處理廠，廢水預處理后的情況參見表1。氨水清洗工序產(chǎn)生的清洗廢水中含氨量為0.02%，為降低廢水中氨的濃度，擬采取熱交換吹脫法除氨，氨的吹脫效率80%，吹脫出的氨經(jīng)15m高排氣筒排放?！稅撼粑廴疚锱欧艠藴省罚℅B14554-93）中規(guī)定：15m高排氣筒氨排放量限值為4.9kg/h。