判斷題蝕刻是將材料使用化學(xué)反應(yīng)或物理撞擊作用而移除的技術(shù)。

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2.多項(xiàng)選擇題在酸性氯化銅蝕刻過(guò)程出現(xiàn)抗蝕劑破壞的原因可能有()。

A.溶液溫度過(guò)高
B.溶液被污染
C.顯影有余膠
D.傳遞速度過(guò)快

3.多項(xiàng)選擇題影響等離子體蝕刻特性好壞的因素包括以下幾個(gè)方面()。

A.等離子體蝕刻系統(tǒng)的形態(tài)
B.等離子體蝕刻的參數(shù)
C.光刻膠
D.待蝕刻薄膜的淀積參數(shù)條件

4.多項(xiàng)選擇題濕法蝕刻具有以下哪些缺點(diǎn)()。

A.化學(xué)藥品處理時(shí)人員會(huì)遭遇的安全問(wèn)題
B.反應(yīng)溶液及去離子水需花費(fèi)較高成本
C.光刻膠會(huì)產(chǎn)生附著性問(wèn)題
D.蝕刻不均勻

最新試題

視覺(jué)、動(dòng)作、同感、熱刺及、饑餓、干渴是屬于生物電化學(xué)效應(yīng)。

題型:判斷題

電催化的本質(zhì)是什么?

題型:?jiǎn)柎痤}

硝酸鹽、苯基硼酸鹽、四氟硼酸鹽的溶解度大可作為支持電解質(zhì),同時(shí)可用于非水溶液體系。

題型:判斷題

金屬有機(jī)化合物電合成過(guò)程中,通常由金屬有機(jī)化合物在陽(yáng)極發(fā)生氧化反應(yīng)得到金屬離子和烷基自由基,烷基自由基再于金屬發(fā)生反應(yīng)生成里另一種金屬有機(jī)化合物。

題型:判斷題

電化學(xué)聚合主要發(fā)生在電極表面,是電化學(xué)與化學(xué)步驟聯(lián)合的動(dòng)力學(xué)過(guò)程。

題型:判斷題

測(cè)定Cr元素的含量時(shí),傳感器的電解質(zhì)表面不需要涂覆含鉻化合物。

題型:判斷題

顆粒電極電解槽為流動(dòng)床式電解槽,其特點(diǎn)是電極面積大,物料傳輸速度快。

題型:判斷題

細(xì)胞膜可控制離子的進(jìn)出,因此可讓所有離子都處于平衡狀態(tài)。

題型:判斷題

在煉鋼過(guò)程中為了測(cè)定鉻含量,通常將鉻單質(zhì)附著在輔助電極表面。

題型:判斷題

半導(dǎo)體可被光能、熱能、電能等激發(fā),使得電子從導(dǎo)帶躍遷至價(jià)帶。

題型:判斷題