表面態(tài)中性能級位于費米能級以上時，該表面態(tài)為（）；

最有效的復(fù)合中心能級位置在Ei附近；最有利陷阱作用的能級位置在（）附近，常見的是少子陷阱。

把磷化鎵在氮氣氛中退火，會有氮取代部分的磷，這會在磷化鎵中出現(xiàn)（）。

雜質(zhì)半導(dǎo)體中的載流子輸運過程的散射機構(gòu)中，當(dāng)溫度升高時，電離雜質(zhì)散射的概率和晶格振動聲子的散射概率的變化分別是（）

在光線作用下，能使物體產(chǎn)生一定方向的電動勢的現(xiàn)象稱（）

懸浮區(qū)熔的優(yōu)點不包括（）

CZ法的主要流程工藝順序正確的是（）

可用作硅片的研磨材料是（）

鑄造多晶硅中的氧主要來源不包括（）

熱處理中氧沉淀的形態(tài)不包括（）