單項(xiàng)選擇題在激勵(lì)線圈周圍使用磁屏蔽一般會(huì)使().

A.磁場(chǎng)范圍擴(kuò)大但渦流透入減小
B.磁場(chǎng)范圍渦流透入增大
C.磁場(chǎng)范圍減小但渦流透入增大
D.磁場(chǎng)范圍渦流透入減小


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1.單項(xiàng)選擇題料中的磁通密度通常用什么表示?()

A.符號(hào)μ
B.符號(hào)σ
C.字母B
D.字母H

2.單項(xiàng)選擇題了消除試驗(yàn)線圈匝數(shù)的影響,阻抗圖的電感值應(yīng)().

A.不考慮
B.歸一化
C.修正到1
D.以上都不是

3.單項(xiàng)選擇題用自比較差動(dòng)線圈對(duì)管材進(jìn)行檢驗(yàn)時(shí),下面哪一種比較容易檢查?()

A.直徑的逐漸變化
B.電導(dǎo)率的逐漸變化
C.溫度變化
D.短缺陷

4.單項(xiàng)選擇題電導(dǎo)率變化一定時(shí),填充系數(shù)減小,傳感線圈阻抗的變化量將?()

A.減小
B.增大
C.不變
D.以上都有可能

5.單項(xiàng)選擇題在試驗(yàn)頻率一定的情況下,下面哪一種材料中渦流的透入深度最大?()

A.鋁(35%IACS電導(dǎo)率)
B.黃銅(15%IACS電導(dǎo)率)
C.銅(95%IACS電導(dǎo)率)
D.鉛(7%IACS電導(dǎo)率)

最新試題

下面給出的射線檢測(cè)基本原理中,正確的是()。

題型:?jiǎn)雾?xiàng)選擇題

X射線檢測(cè)圖像直觀、缺陷定性準(zhǔn)確,因此焊接缺陷無(wú)論大小和延伸方向都可以選擇X射線檢測(cè)。

題型:判斷題

焊接工藝處理超標(biāo)缺陷必須閱片的主要目的是()。

題型:?jiǎn)雾?xiàng)選擇題

射線檢測(cè)最有害的危險(xiǎn)源是(),必須嚴(yán)加控制。

題型:?jiǎn)雾?xiàng)選擇題

提出有效磁導(dǎo)率的是下列哪位科學(xué)家()

題型:?jiǎn)雾?xiàng)選擇題

補(bǔ)焊次數(shù)的界定由工藝、檢驗(yàn)負(fù)責(zé),對(duì)兩個(gè)補(bǔ)焊區(qū)交界部位補(bǔ)焊次數(shù)的界定,需要通過(guò)底片觀察提供幫助時(shí),X光室應(yīng)予以配合。

題型:判斷題

產(chǎn)品焊接接頭最終質(zhì)量經(jīng)X射線檢驗(yàn)合格后不得再實(shí)施影響接頭性能的加工(如校形、修刮、重熔等),否則應(yīng)重新申請(qǐng)進(jìn)行X射線檢測(cè)。

題型:判斷題

缺陷分類應(yīng)符合驗(yàn)收標(biāo)準(zhǔn)的要求,標(biāo)準(zhǔn)未作規(guī)定的缺陷或不屬于X射線照相檢驗(yàn)范疇的缺陷,必要時(shí)可予以注明供有關(guān)人員參考,但不作為合格與否判定的依據(jù)。

題型:判斷題

X射線檢驗(yàn)人員負(fù)責(zé)對(duì)需排除的超標(biāo)缺陷實(shí)施定位、做好相應(yīng)標(biāo)注,確保定位準(zhǔn)確。

題型:判斷題

X光檢驗(yàn)組按復(fù)查清單組織復(fù)查,并出具X光底片復(fù)查報(bào)告,復(fù)查無(wú)遺留問(wèn)題方可進(jìn)行試壓。

題型:判斷題