問(wèn)答題擴(kuò)散摻雜與離子注入摻雜所形成的雜質(zhì)濃度分布各自的特點(diǎn)是什么？與擴(kuò)散摻雜相比離子注入摻雜的優(yōu)勢(shì)與缺點(diǎn)各是什么？
您可能感興趣的試卷
你可能感興趣的試題
1.問(wèn)答題簡(jiǎn)述兩步擴(kuò)散的含義與目的？
2.名詞解釋保形覆蓋
3.名詞解釋橫向擴(kuò)散
4.名詞解釋恒定表面源擴(kuò)散
5.名詞解釋有限表面源擴(kuò)散
最新試題
為提高CMOS集成電路的抗自鎖能力，可在版圖設(shè)計(jì)上采取哪些措施？
題型：?jiǎn)柎痤}
在晶體材料中，對(duì)于長(zhǎng)程有序的原子模式最基本的實(shí)體就是（）。
題型：?jiǎn)雾?xiàng)選擇題
材料根據(jù)流經(jīng)材電流的不同可分為三類(lèi)（）。
題型：多項(xiàng)選擇題
半導(dǎo)體工藝技術(shù)中，器件互連材料通常包括（）等。
題型：多項(xiàng)選擇題
集成電容主要有幾種結(jié)構(gòu)？
題型：?jiǎn)柎痤}
由硅片生產(chǎn)的半導(dǎo)體產(chǎn)品，又被稱(chēng)為（）。
題型：多項(xiàng)選擇題
BiCMOS技術(shù)就是將（）和（）的優(yōu)良性能集中在同一塊集成電路器件中。BiCMOS綜告了CMOS結(jié)構(gòu)的低功耗、高集成度和TTL或ECL器件結(jié)構(gòu)的高電流驅(qū)動(dòng)能力。
題型：多項(xiàng)選擇題
什么是電阻率？它的單位是什么（國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)單位制）？
題型：?jiǎn)柎痤}
什么是MOS器件的體效應(yīng)？
題型：?jiǎn)柎痤}
版圖設(shè)計(jì)的基本前提是什么？
題型：?jiǎn)柎痤}