問答題簡述光刻工藝步驟。
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由于襯底材料的緣故會自動產(chǎn)生電容,這種電容稱為()。
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從天然硅中獲得達到生產(chǎn)半導體器件所需純度的SGS要經(jīng)過()等步驟。
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比較砷化鎵和磷化銦等襯底與硅襯底上的電感等效電路,試分析兩者存在差異的原因。
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材料根據(jù)流經(jīng)材電流的不同可分為三類()。
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BiCMOS技術就是將()和()的優(yōu)良性能集中在同一塊集成電路器件中。BiCMOS綜告了CMOS結(jié)構的低功耗、高集成度和TTL或ECL器件結(jié)構的高電流驅(qū)動能力。
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規(guī)定版圖幾何設計規(guī)則的意義是什么?
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版圖設計的基本前提是什么?
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在晶體材料中,對于長程有序的原子模式最基本的實體就是()。
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在圖中,若所有的晶體管都工作在飽和區(qū),求M4的漏電流。
題型:問答題
半導體工藝技術中,器件互連材料通常包括()等。
題型:多項選擇題