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【簡(jiǎn)答題】說(shuō)明RCA清洗硅片的方法,SC-1和SC-2的配方特點(diǎn)
答案:
SC-1去除有機(jī)殘余物,金屬
SC-2去除堿金屬離子,氫氧根。
根據(jù)不同的應(yīng)...
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【簡(jiǎn)答題】去離子水的規(guī)格,如何得到工藝用水
答案:
①反滲透(RO)和離子交換系統(tǒng) 去除離子(鹽分、礦物)
②固態(tài)雜質(zhì)(顆粒)通過(guò)沙石過(guò)濾器、泥土過(guò)濾器...
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【簡(jiǎn)答題】常見(jiàn)晶體生長(zhǎng)的方法有哪些,說(shuō)明直拉法的工作過(guò)程,對(duì)比直拉法和區(qū)熔法的優(yōu)缺點(diǎn)
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【簡(jiǎn)答題】列出三種主要的半導(dǎo)體材料、比較其優(yōu)缺點(diǎn)
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【簡(jiǎn)答題】說(shuō)出摻雜半導(dǎo)體的兩種特性
答案:
①通過(guò)摻雜濃度精確控制電阻率
②通過(guò)摻雜元素的選擇控制導(dǎo)電類型(電子N型或空穴P型導(dǎo)電)
摻雜半導(dǎo)體...
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【簡(jiǎn)答題】列出三類晶體缺陷并說(shuō)明其形成的原因
答案:
①點(diǎn)缺陷:晶體雜志原子擠壓晶體結(jié)構(gòu)引起的壓力所致
②位錯(cuò):晶體生長(zhǎng)條件、晶體內(nèi)的晶格應(yīng)力、制造過(guò)程中的物理?yè)p壞...
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【簡(jiǎn)答題】說(shuō)明工藝及產(chǎn)品趨勢(shì)
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【簡(jiǎn)答題】簡(jiǎn)述微電子工藝的特點(diǎn)
答案:
①高技術(shù)含量:設(shè)備先進(jìn)、技術(shù)先進(jìn)
②高精度:光刻圖形的最小線條尺寸在亞微米量級(jí),制備的介質(zhì)薄膜厚度也在納米量級(jí)...
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【簡(jiǎn)答題】解釋集成度的概念并根據(jù)集成度將集成電路分類
答案:
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【簡(jiǎn)答題】簡(jiǎn)述制造半導(dǎo)體器件的四個(gè)階段
答案:
①材料準(zhǔn)備
②晶體生長(zhǎng)與晶圓準(zhǔn)備
③芯片制造
④封裝
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【簡(jiǎn)答題】列舉出幾種pn結(jié)的形成方法并說(shuō)出平面工藝的特點(diǎn)
答案:
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