多項選擇題直流二極管輝光放電系統(tǒng)是由()構(gòu)成。
A.抽真空的玻璃管
B.抽真空后再充入某種低壓氣體的玻璃管
C.兩個電極
D.加速器
E.增益管
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1.單項選擇題在直流二極管輝光放電系統(tǒng)的玻璃管中,自由電子在碰撞氬原子之前可運動的平均距離又叫()。
A.平均運動范圍
B.平均速度
C.平均碰撞距離
D.平均自由程
2.多項選擇題從電極的結(jié)構(gòu)看,濺射的方法包括()。
A.直流濺射
B.交流濺射
C.二級濺射
D.三級濺射
E.四級濺射
3.多項選擇題濺射的方法非常多其中包括()。
A.直流濺射
B.交流濺射
C.反應(yīng)濺射
D.二級濺射
E.三級濺射
4.多項選擇題一般來說,濺射鍍膜的過程包括()這幾步。
A.產(chǎn)生一個離子并導向靶
B.被轟擊的原子向硅晶片運動
C.離子把靶上的原子轟出來
D.經(jīng)過加速電場加速
E.原子在硅晶片表面凝結(jié)
5.單項選擇題()是指每個入射離子濺射出的靶原子數(shù)。
A.濺射率
B.濺射系數(shù)
C.濺射效率
D.濺射比
最新試題
傳統(tǒng)的平坦化技術(shù)有()
題型:多項選擇題
最常用的砷化鎵的濕法刻蝕腐蝕液包括()
題型:多項選擇題
當需要刻蝕的圖形尺寸大于3um時,一般使用()。
題型:單項選擇題
最常用的砷化橡的濕法刻蝕腐蝕液包括()
題型:多項選擇題
在離子注入完成后,檢驗到硅片表面有顆粒污染嚴重的情況,該情況引起的主要問題有()
題型:多項選擇題
一般情況下,刻蝕完成后需要進行的操作是()
題型:單項選擇題
假設(shè)光刻膠的厚度是2000埃,二氧化硅的厚度為4000塊,如果要求經(jīng)過30秒的刻蝕后,厚度變?yōu)?400埃,那么這個過程中刻蝕速率是()埃/分鐘。
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