多項選擇題濺射的方法非常多其中包括（）。
A.直流濺射
B.交流濺射
C.反應(yīng)濺射
D.二級濺射
E.三級濺射
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1.多項選擇題一般來說，濺射鍍膜的過程包括（）這幾步。
A.產(chǎn)生一個離子并導(dǎo)向靶
B.被轟擊的原子向硅晶片運動
C.離子把靶上的原子轟出來
D.經(jīng)過加速電場加速
E.原子在硅晶片表面凝結(jié)
2.單項選擇題（）是指每個入射離子濺射出的靶原子數(shù)。
A.濺射率
B.濺射系數(shù)
C.濺射效率
D.濺射比
3.單項選擇題（）方法是大規(guī)模集成電路生產(chǎn)中用來沉積不同金屬的應(yīng)用最為廣泛的技術(shù)。
A.蒸鍍
B.離子注入
C.濺射
D.沉積
4.單項選擇題（）是與氣體輝光放電現(xiàn)象密切想關(guān)的一種薄膜淀積技術(shù)。
A.蒸鍍
B.離子注入
C.濺射
D.沉積
5.單項選擇題用高能粒子從某種物質(zhì)的表面撞擊出原子的物理過程叫（）。
A.蒸鍍
B.離子注入
C.濺射
D.沉積
最新試題
最常用的砷化橡的濕法刻蝕腐蝕液包括（）
題型：多項選擇題
分結(jié)深是重要的結(jié)構(gòu)參數(shù)，在檢驗時發(fā)現(xiàn)超淺結(jié)注入時，判斷其造成原因有（）
題型：多項選擇題
兼具有各向異性刻蝕的優(yōu)點，又有可接受的選擇比的刻蝕方法是（）。
題型：單項選擇題
下列哪些是進(jìn)行光刻前的預(yù)處理的步驟？（）
題型：多項選擇題
最常用的砷化鎵的濕法刻蝕腐蝕液包括（）
題型：多項選擇題
利用高溫驅(qū)動雜質(zhì)滲透進(jìn)半導(dǎo)體內(nèi)，此工序采用的設(shè)備是（）
題型：單項選擇題
堅膜烘焙在加熱平板上進(jìn)行，溫度控制在（）。
題型：單項選擇題
一般情況下，刻蝕完成后需要進(jìn)行的操作是（）
題型：單項選擇題
說明功能檢測工裝的制作原理？
題型：問答題
以下屬于刻蝕環(huán)節(jié)質(zhì)量要求的是（）
題型：多項選擇題