填空題

半導體集成電路生產中，元件之間隔離有（）（）（）隔離等三種基本方法.

答案： Pn結介質；Pn結隔離；Pn結介質混合

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二氧化硅的制備方法很多，其中最常用的是高溫（）、（）淀積、PECVD淀積。

答案：氧化；氣相

離子注入雜質濃度分布中最重要的二個射程參數是（）和（）。

答案：平均投影射程；平均投影標準差

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