A.基層
B.乳化劑
C.高基層
D.保護(hù)層
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A.近場(chǎng)區(qū)
B.遠(yuǎn)場(chǎng)區(qū)
C.聲束擴(kuò)散角以外區(qū)
D.儀器阻塞時(shí)間
A.顯示器
B.接收器
C.標(biāo)準(zhǔn)電路
D.同步電路
A.聲速轉(zhuǎn)換器
B.聲速射折器
C.聲透鏡
D.聲阻尼器
A.還原劑
B.抑制劑
C.保護(hù)劑
D.促進(jìn)劑
A.碳酸鈉
B.米吐爾
C.溴化鉀
D.氫氧化鈉
最新試題
衍射時(shí)差法對(duì)缺陷的定量依賴于缺陷的回波幅度。
缺陷垂直時(shí),擴(kuò)散波束入射至缺陷時(shí)回波較高,而定位時(shí)就會(huì)誤認(rèn)為缺陷在軸線上,從而導(dǎo)致定位不準(zhǔn)。
對(duì)于圓柱體而言,外圓徑向檢測(cè)實(shí)心圓柱體時(shí),入射點(diǎn)處的回波聲壓理論上同平底面工件相同。
衍射時(shí)差法探傷,當(dāng)有缺陷存在時(shí),在直通波和底面反射波之間,接收探頭會(huì)接收到缺陷處產(chǎn)生的衍射波。
液浸法探傷是使探頭發(fā)射的超聲波經(jīng)過(guò)一段液體后再進(jìn)入試件的檢測(cè)的方法。
儀器時(shí)基線比例一般在試塊上調(diào)節(jié),當(dāng)工件與試塊的聲速不同時(shí),儀器的時(shí)基線比例發(fā)生變化,影響缺陷定位精度。
水浸式探頭主要特點(diǎn)是探頭與工件直接接觸,且探頭部分或全部門浸入耦合液中。
缺陷相對(duì)反射率即缺陷反射聲壓與基準(zhǔn)反射體聲壓之比。
對(duì)于比正??v波底面回波滯后的變形波稱為遲到回波。
對(duì)于橫波斜探頭而言,不同K值的探頭的靈敏度不同,因此探頭K值偏差也會(huì)影響缺陷的定量。