單項(xiàng)選擇題

氧化層中摻雜了硼雜質(zhì)，一般稱為（）。

A.PSG
B.BPSG
C.BSG
D.FSG

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單項(xiàng)選擇題

如果制作柵氧結(jié)構(gòu)，一般采用的方法是（）。

A.濕氧氧化
B.氫氧合成
C.CVD
D.干氧氧化

CMOS電路是通過有源區(qū)進(jìn)行隔離的，屬于絕緣介質(zhì)隔離。

答案：錯(cuò)誤