A.射線檢測(cè)
B.磁粉檢測(cè)
C.超聲檢測(cè)
D.滲透檢測(cè)
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A.監(jiān)測(cè)輻射工作環(huán)境劑量率
B.監(jiān)測(cè)輻射從業(yè)人員個(gè)人累計(jì)劑量
C.檢測(cè)周圍人群累計(jì)劑量
D.劑量超標(biāo)報(bào)警
A.申請(qǐng)單
B.任務(wù)通知單
C.調(diào)度口頭申請(qǐng)
D.生產(chǎn)工人口頭申請(qǐng)
A.評(píng)價(jià)射線底片影像靈敏度
B.底片黑度
C.檢測(cè)誤差
D.以上都對(duì)
A.射線源焦點(diǎn)尺寸加大
B.射線源與透照物體的距離減小
C.透照物體的厚度增大
D.透照電壓提高
A.采用顆粒更細(xì)膠片
B.提高管電壓
C.增大焦距
D.采用適當(dāng)厚度鉛增感屏
最新試題
對(duì)于厚度變化較大的變截面工件透照，只要底片黑度符合GJB1187A的要求時(shí)，就可采用多膠片技術(shù)。
提出有效磁導(dǎo)率的是下列哪位科學(xué)家（）
缺陷分類應(yīng)符合驗(yàn)收標(biāo)準(zhǔn)的要求，標(biāo)準(zhǔn)未作規(guī)定的缺陷或不屬于X射線照相檢驗(yàn)范疇的缺陷，必要時(shí)可予以注明供有關(guān)人員參考，但不作為合格與否判定的依據(jù)。
送檢產(chǎn)品工序狀態(tài)及表面質(zhì)量應(yīng)符合工藝規(guī)程或工藝處理意見(jiàn)的要求，經(jīng)表面檢驗(yàn)合格，申請(qǐng)單無(wú)需檢驗(yàn)蓋章確認(rèn)。
對(duì)焊接接頭穩(wěn)定時(shí)間有規(guī)定的產(chǎn)品，工藝規(guī)程應(yīng)作出規(guī)定，檢驗(yàn)監(jiān)控確認(rèn)，檢驗(yàn)蓋章時(shí)穩(wěn)定時(shí)間不足者應(yīng)在申請(qǐng)單注明穩(wěn)定時(shí)間節(jié)點(diǎn)，否則X光室視為穩(wěn)定時(shí)間符合要求。
為了提高射線照相對(duì)比度，可以采用高電壓、短時(shí)間、大管電流的方式曝光。
下面給出的射線檢測(cè)基本原理中，正確的是（）。
航天無(wú)損檢測(cè)人員的資格分為三個(gè)等級(jí)：Ⅰ級(jí)為初級(jí)，Ⅱ級(jí)為中級(jí)，Ⅲ級(jí)為高級(jí)。其中Ⅱ級(jí)人員應(yīng)具備的能力有（）。
在射線照相檢驗(yàn)中，隨著射線能量的提高，得到的圖像不清晰度也將增大。
射線檢測(cè)最有害的危險(xiǎn)源是（），必須嚴(yán)加控制。