問答題

【簡答題】光刻設(shè)備主要有那些？

答案： 接觸式光刻機；接近式光刻機；掃描投影光刻機；分步重復(fù)投影光刻機；步進掃描光刻機。
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問答題

【簡答題】后光刻時代有那些光刻新技術(shù)？
答案： 浸入式光刻、納米壓印光刻、極紫外光刻（EUV）和無掩模(ML2)一起成為后光刻技術(shù)時代的候選技術(shù)。
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【簡答題】紫外光的常見曝光方法有那些？
答案： 紫外（UV）的曝光方法主要有接觸式曝光、接近式曝光和投影式曝光。
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