問答題

【簡答題】光刻設(shè)備主要有那些?

答案: 接觸式光刻機;接近式光刻機;掃描投影光刻機;分步重復(fù)投影光刻機;步進掃描光刻機。
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【簡答題】后光刻時代有那些光刻新技術(shù)?

答案: 浸入式光刻、納米壓印光刻、極紫外光刻(EUV)和無掩模(ML2)一起成為后光刻技術(shù)時代的候選技術(shù)。
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【簡答題】紫外光的常見曝光方法有那些?

答案: 紫外(UV)的曝光方法主要有接觸式曝光、接近式曝光和投影式曝光。
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