A.480nm
B.400nm
C.650nm
D.500nm
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A.
B.
C.
D.
A.干涉條紋移向劈棱,條紋間距變?。?br />
B.干涉條紋移向劈背,條紋間距變??;
C.干涉條紋移向劈背,條紋間距變大;
D.干涉條紋移向劈棱,條紋間距變大。
A.nL sin θ
B.2nL sin θ
C.3/2 nLsin θ
D.2L sin θ
A.增大劈角
B.增大光頻
C.增大入射角
D.充滿介質(zhì)
A.干涉條紋向棱邊密集;
B.干涉條紋背離棱邊密集;
C.干涉條紋向棱邊稀疏;
D.干涉條紋背向棱邊稀疏。
最新試題
在等振幅多光束相干中,如果相干單元數(shù)量為N,則干涉條紋最大光強(qiáng)(或稱為譜線亮度)是一個(gè)相干單元光強(qiáng)的()
當(dāng)一束自然光以布儒斯特角入射到兩種媒質(zhì)的分界面上時(shí),反射光為線偏振光,其振動(dòng)方向()
等振幅多光束相干實(shí)驗(yàn)中,如果參與相干的光束數(shù)增加一倍,則干涉明紋中心亮度變?yōu)樵瓉?lái)的()
折射率為n2的薄膜,置于兩個(gè)不同介質(zhì)的界面處,薄膜上側(cè)折射率為n1,下側(cè)的射率為n3,關(guān)于薄膜干涉以下判斷錯(cuò)誤的是()
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在等振幅多光束相干中,如果相干單元數(shù)量為N,則相鄰兩個(gè)極大值之間有()
自然光入射到不知其折射率的某一透明介質(zhì)表面時(shí),反射光為線偏振光,則知()
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