注入離子的射程主要由()決定。確定注入離子分布的主要參數(shù)是()及其()。注入離子分布的一級近似為()??蓪懗桑?img src="https://newimg.ppkao.com/2019-07/wangjing/2019070410290232389.jpg" />
最新試題
封裝工藝中,銀漿固化的溫度為()。
三光檢查主要是檢查芯片粘貼和引線焊接之后有無各種廢品。
鳥嘴效應造成的不良影響有()。
硅暴露在空氣中,在室溫下即可產生二氧化硅層,厚度約為()。
摻雜后,退火的目的是()。
CMP的設備構成包括()。
當許多損傷區(qū)連在一起時就會形成連續(xù)的非晶層,開始形成連續(xù)非晶層的注入劑量稱為()。
下面哪些元素屬于半徑較小的雜質原子?()
新的平坦化方法有哪幾個?()
厚膜電阻的成分,一是導體顆粒,二是()。