渦流的相似定律是什么？在渦流檢測(cè)中有何作用？

阻抗圖中，實(shí)線曲線是什么值不同的曲線（）。

JB4730-94標(biāo)準(zhǔn)中規(guī)定磁軛的磁極間距應(yīng)控制在（）。

散射線忽略不計(jì)，當(dāng)平板透照厚度的減薄量相當(dāng)于半價(jià)層的1/×?xí)r，則膠片接受的射線照射量將增大百分之幾？

當(dāng)激勵(lì)電壓加于一次繞組時(shí)，只有磁通量是同相的，且二次磁通量較小。當(dāng)試驗(yàn)物體插入該線圈時(shí)，將發(fā)生什么情況（）。

下面哪種因素會(huì)改變趨膚效應(yīng)（）。

用××2005型×光機(jī)180KV管電壓透照Φ51*3.5的管子環(huán)焊縫，已知焊縫寬度b=10mm，焦點(diǎn)尺寸3*3，試求①滿足Ug=3Ui，橢圓開口間距g=5mm時(shí)的透照距離L1和透照偏移距離S（設(shè)Ui=0.0013V0.8，膠片離管子底面距離3mm）②若透照距離L1=800mm，則此時(shí)Ug為Ui的幾倍？

什么叫做試驗(yàn)線圈的視在阻抗？它在渦流檢測(cè)中有何作用？

造成相同的x射線機(jī)曝光曲線不完全相同的原因是什么？

新置的Ir192γ射線源，其活度為40Ci，現(xiàn)今時(shí)隔300天，已知，Ir192γ射線源的半衰期為75天。求該源現(xiàn)在的活度？該源新置時(shí)，對(duì)某工件進(jìn)行射線照相的曝光時(shí)間為4min，若所有條件不變，現(xiàn)今應(yīng)曝光多少分鐘？