簡述鋅酸鹽鍍鋅工藝中的金屬雜質的來源。

簡述陰極極化度對均鍍能力和深鍍能力的影響。

影響鎂及其合金化學氧化膜質量的因素有哪些？

在普通鍍鎳液中，NiSO4·7H2O 的濃度最接近（）g/L 數(shù)值。

低濃度鍍鉻一般采用鉻酐的濃度為（）g/L 。

為什么常以銅鍍層作為多層電鍍的底鍍層？

無氰鍍銀中，硝酸銀的濃度為（）g/L 。

氰化鍍鋅液中，硫化鈉的濃度最接近（）g/L 。

為達到（）的目的，常鍍以銀鍍層。

在普通鍍鎳液中，陰極電流密度為（）A/dm2。