A.源軸距
B.源皮距
C.射野中心軸
D.源瘤距
E.皮下
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A.1cm
B.1.5cm
C.2.5cm
D.0.5cm
E.2cm
A.臨床靶區(qū)內(nèi)所接受的最小劑量
B.腫瘤區(qū)內(nèi)所接受的最小劑量
C.治療區(qū)內(nèi)所接受的最小劑量
D.計劃靶區(qū)內(nèi)所接受的最小劑量
E.腫瘤區(qū)內(nèi)所接受的最大劑量
A.減少電離室桿效應(yīng)的影響
B.減少復(fù)合效應(yīng)的影響
C.減少漏電流
D.控制和減少電離室極化效應(yīng)
E.增加電離室的收集效率
A.主要使用多弧非共面聚焦照射技術(shù)
B.是一種特殊的全身外照射治療手段
C.可以是單次大劑量照射,也可以是分次照射
D.立體定位偏差應(yīng)小于±1mm,劑量偏差小于±5%
E.可以使用X射線,也可以使用γ射線、質(zhì)子束
A.步進(jìn)源系統(tǒng)的建立是以巴黎系統(tǒng)為基礎(chǔ)
B.布源規(guī)則不一定嚴(yán)格遵守巴黎系統(tǒng)
C.根據(jù)臨床靶區(qū)的幾何形狀確定放射源的排列放射和間距
D.放射源長度可以與巴黎系統(tǒng)不同
E.采用優(yōu)化處理可消除高劑量區(qū)的存在
最新試題
巴黎系統(tǒng)的插植規(guī)定所有的放射源的線比釋動能率相等。
電磁掃描調(diào)強(qiáng)不僅具有X 射線光子的利用率高、治療時間短的優(yōu)點,而且可實現(xiàn)電子束、質(zhì)子束的調(diào)強(qiáng)治療。
實際患者治療時,無環(huán)重定位技術(shù)的靶點位置總的治療精度稍劣于有環(huán)技術(shù)。
影響靶點位置精確度的因素包括機(jī)械精度,定位精度和擺位精度。
半影為射野邊緣劑量隨離開中心軸距離增加而急劇變化的范圍。
對加速器射野的對稱性和平坦度的檢查應(yīng)每月兩次。
射線能量越高,百分深度劑量隨射野面積的改變越小。
光電效應(yīng)時入射X(γ)光子的能量一部分轉(zhuǎn)化為次級電子動能,另一部分為特征X 射線能量。
射野中心軸上百分深度劑量值的大小直接反應(yīng)了射線質(zhì)(能量)的高低。
人體曲面校正的組織空氣比法或組織最大劑量比方法的修正因子CF的表達(dá)式是()。