A.基礎(chǔ)環(huán)
B.面罩
C.定位框架
D.擺位框架
E.CT/MRI適配器
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A.K層
B.L層
C.M層
D.N層
E.O層
A.射野均整度
B.射野對(duì)稱性
C.射線的平均能
D.射線的輻射質(zhì)
E.射線的穿透性
A.處方劑量12~25Gy：病灶越大，處方劑量越小
B.主要適用于功能性失調(diào)、血管畸形、一些良性腫瘤和遠(yuǎn)處轉(zhuǎn)移病灶的治療
C.偶爾用于惡性顱內(nèi)腫瘤常規(guī)放射治療后的劑量推量
D.處方劑量為0.5~2Gy：病灶越大，處方劑量越小
E.可以應(yīng)用于腦垂體瘤的治療
A.校準(zhǔn)系數(shù)
B.半值深度
C.水表面的平均能量
D.實(shí)際射程
E.水下的平均能量
A.1~4MV
B.4~8MV
C.4-10MV
D.10~15MV
E.18~25MV
最新試題
電離室型劑量?jī)x在每次測(cè)量前必需對(duì)氣溫和氣壓進(jìn)行修正。
治療證實(shí)是治療準(zhǔn)確執(zhí)行的重要保證，包括驗(yàn)證記錄系統(tǒng)，射野影像系統(tǒng)，活體劑量測(cè)量系統(tǒng)。
質(zhì)子束的優(yōu)勢(shì)在于布拉格峰形百分深度劑量分布。
低LET射線的RBE值（）1.0，高LET射線的RBE值（）2.0。
檢查燈光野與射野的一致性通常用膠片法。
實(shí)際患者治療時(shí)，無環(huán)重定位技術(shù)的靶點(diǎn)位置總的治療精度稍劣于有環(huán)技術(shù)。
對(duì)鈷60機(jī)射野的對(duì)稱性和平坦度的檢查應(yīng)每月一次。
電磁掃描調(diào)強(qiáng)不僅具有X 射線光子的利用率高、治療時(shí)間短的優(yōu)點(diǎn)，而且可實(shí)現(xiàn)電子束、質(zhì)子束的調(diào)強(qiáng)治療。
巴黎系統(tǒng)規(guī)定臨床靶區(qū)的厚度T大于1.2cm 時(shí)，應(yīng)采用雙平面插植。
光電效應(yīng)時(shí)入射X（γ）光子的能量一部分轉(zhuǎn)化為次級(jí)電子動(dòng)能，另一部分為特征X 射線能量。