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單項選擇題化工化學(xué)水裝置低硅水來水壓力要求控制在（）MPa。

A.0.1～0.3
B.0.4～0.6
C.0.7～0.9
D.1.0～1.2

1.單項選擇題化工化學(xué)水裝置低硅水來水CODMn控制指標(biāo)≤（）mg/L。

A.1
B.2
C.3
D.4

2.單項選擇題化工化學(xué)水裝置原水低硅水中含量較高的陰離子有四種，分別為（）。

A.HCO₃^-、CL^-、SO₄^2-、HSiO₃^-
B.HCO₃^-、CL^-、SO₄^2-、CO₃^2-
C.HCO₃^-、CO₃^2-、CL^-、NO₃^-
D.HCO₃^-、CO₃^2-、SO₄^2-、HSiO₃^-

3.單項選擇題化工化學(xué)水裝置原水低硅水中含量較高的陽離子有四種，分別為（）。

A.Na⁺、Fe²⁺、Ca²⁺、Mg²⁺
B.Na⁺、K⁺、Ca²⁺、Mg²⁺
C.Na⁺、K⁺、Fe²⁺、Ca²⁺
D.Na⁺、K⁺、Ca²⁺、Cu²⁺

4.單項選擇題當(dāng)水的PH值小于（）時，水中碳酸幾乎完全以二氧化碳的形式存在。

A.4.3
B.6.2
C.7.8
D.9.0

5.單項選擇題當(dāng)天然水中PH值大于8.3時，水中不存在（）。

A.CO₂
B.HCO₃^-
C.CO₃^2-
D.OH^-