碳四裝置再生過程中需要（）介質進行再生操作。

碳四裂解加熱爐烘爐的目的是（）

氣分裝置地下水罐的冷凝水來自于（）

脫乙烷塔循環(huán)建立時，塔頂冷卻器循環(huán)水開的過大，會出現（）現象。

氣分裝置脫乙烷塔塔頂溫高，是由于（）引起。

“水擊”消除方法根本指導思想是（）

進萃取裝置原料中異丁烷含量過高有利于提高（）

碳四裝置再生系統(tǒng)再生前必須確定（）是合格的。

氣體分餾裝置處理量超負荷生產時，操作上注意事項以下哪些是正確的（）

碳四裂解裝置加熱反應系統(tǒng)結焦危害是（）