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【共用題干題】制造晶體管一般是在高雜質(zhì)濃度的n型襯底上外延一層n型外延層,再在外延層中擴(kuò)散硼、磷而成的。設(shè)n型硅單晶襯底是摻銻的,銻的電離能為0.039eV,300K時(shí)的EF位于導(dǎo)帶下面0.026eV處,計(jì)算銻的濃度和導(dǎo)帶中電子濃度。
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【計(jì)算題】試計(jì)算摻磷的硅、鍺在室溫下開始發(fā)生弱簡并時(shí)的雜質(zhì)濃度為多少?
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【計(jì)算題】求室溫下?lián)戒R的n型硅,使E
F
=(E
C
+E
D
)/2時(shí)銻的濃度。已知銻的電離能為0.039eV。
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