槽、井、坑探取樣，通常為刻槽法，其斷面規(guī)格原則上要進(jìn)行試驗(yàn)確定。

在地質(zhì)編錄中，坡角的上坡標(biāo)記為（）。

地質(zhì)填圖中按照填圖精度要求的觀察路線距離，垂直（或大致垂直）巖層走向布置觀察路線，觀察路線要根據(jù)填圖精度和基巖出露情況考慮點(diǎn)距和線距。

一般情況下，地質(zhì)界線投影時(shí)，常用壁下、壁頂、坑頂（）個(gè)投影繪圖點(diǎn)。

沿脈坑道中圈定礦體時(shí)，無(wú)礦地段的剔除標(biāo)準(zhǔn)一般為上下工程對(duì)應(yīng)時(shí)為10~15米，工程不對(duì)應(yīng)時(shí)為20~30米。

采用米·克/噸值圈定礦體時(shí)可以外推（以米·克/噸值圈定的薄脈型礦體除外）。

地質(zhì)樣品采樣方法分為取心法、刻槽法、剝層法、全巷法、連續(xù)打塊法、集束刻線法、方格法、撰取法等。

物探技術(shù)人員和地質(zhì)技術(shù)人員在勘查工作中應(yīng)密切配合，做到四共同，即共同設(shè)計(jì)部署、共同推斷解譯、共同查證異常、共同編寫報(bào)告。

坑道方向改變后，坑壁上巖礦層的傾角線、頂板上的走向線在繪圖時(shí)，方向和角度都有變化，出現(xiàn)巖石花紋不連續(xù)，可用（）在轉(zhuǎn)向處分開(kāi)。

一般情況下，地質(zhì)界線投影時(shí)，常用壁下、壁頂、坑頂3個(gè)投影繪圖點(diǎn)，這3個(gè)點(diǎn)基本上可以控制（）及坑頂兩個(gè)面上的地質(zhì)要素的基本形態(tài)。