多項(xiàng)選擇題閉鎖料斗循環(huán)時(shí)間延長(zhǎng)的原因（）。

A.第三步吹烴時(shí)間長(zhǎng)
B.第四步排料時(shí)間長(zhǎng)
C.閉鎖料斗設(shè)定料位低
D.閉鎖料斗設(shè)定循環(huán)時(shí)間延長(zhǎng)


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1.多項(xiàng)選擇題還原器溫度升高的原因有（）。

A.閉鎖料斗送過(guò)來(lái)大量吸附劑
B.加熱爐對(duì)流室出口溫度高
C.反應(yīng)器油氣竄入還原器
D.還原器下部的松動(dòng)氣量增加

2.多項(xiàng)選擇題降低還原器溫度的方法（）。

A.降低加熱爐對(duì)流室出口溫度
B.降低流化氫氣量
C.降低反應(yīng)壓力
D.降低反應(yīng)溫度

3.多項(xiàng)選擇題還原器溫度的影響因素有（）。

A.再生吸附劑的溫度
B.反應(yīng)器壓力
C.加熱爐對(duì)流室溫度
D.還原器料位

4.多項(xiàng)選擇題穩(wěn)定塔頂溫高將影響（）。

A.穩(wěn)定塔底溫
B.穩(wěn)定塔頂回流罐液位
C.穩(wěn)定塔進(jìn)料量
D.穩(wěn)定塔頂排氣量

5.多項(xiàng)選擇題降低穩(wěn)定塔頂溫的操作有（）。

A.降低回流溫度
B.提高穩(wěn)定塔頂壓力
C.降低塔底加熱蒸汽量
D.降低回流量